实验室匀胶机，又称旋涂仪、甩胶机，是一种利用离心力原理在基底材料表面制备均匀薄膜的关键设备，广泛应用于半导体、材料科学、生物医学及光学等领域。其核心功能是通过高速旋转产生的离心力，将滴加在基片上的胶液均匀铺展，形成厚度可控的纳米级或微米级薄膜。
匀胶机通过电机驱动基片高速旋转（转速范围通常为50-10000转/分，精度±1%），胶液在离心力作用下从基片中心向外扩散，同时溶剂挥发，最终形成均匀薄膜。薄膜厚度受转速、胶液黏度、旋涂时间及环境温湿度影响，其中转速稳定性（如±0.5%稳定度）和重复性是决定膜厚均匀性的关键。
实验室匀胶机的核心模块直接参与“液体铺展→离心成膜”过程，是匀胶机的核心执行单元，包括：
1、旋转工作台（Spin Chuck）
旋转工作台是放置基底并提供离心力的核心部件，其精度直接影响涂层厚度均匀性，关键设计特点如下：
材质与结构：
台面通常采用耐腐蚀、高刚性材料（如铝合金阳极氧化、聚四氟乙烯、石英），避免被光刻胶、溶剂腐蚀；台面中心多设计为“真空吸附孔/真空吸盘”，通过负压牢牢固定基底（防止高速旋转时基底移位或甩出），吸附力度可通过真空阀调节（适配不同尺寸、厚度的基底，如2英寸、4英寸硅片，或柔性薄膜）。
驱动与转速精度：
台面下方连接高精度伺服电机/步进电机，搭配减速箱和编码器，实现转速的精准控制（常规转速范围：100~10000 rpm，部分高精度机型可达20000 rpm），转速误差通常≤±1 rpm（避免转速波动导致涂层厚度不均）。
尺寸适配性：
支持更换“适配不同基底尺寸的卡盘”（如圆形卡盘、方形卡盘），可处理直径从几毫米（如芯片级基底）到十几厘米（如大尺寸玻璃片）的基底，部分机型支持定制异形基底工作台。
2、滴胶系统（Dispensing System）
滴胶系统负责将液体材料精准滴加在基底中心（或指定位置），确保初始液滴量一致（液滴量偏差会直接导致涂层厚度不均），主要分为手动滴胶组件和自动滴胶组件：
手动滴胶组件：
基础款匀胶机配置，通常包括“滴胶针头固定架”（可调节针头高度，避免针头触碰基底或液滴飞溅）和“微量移液器/注射器”（用户手动控制滴胶量，适合小批量、非标准化实验）。
自动滴胶组件（高d机型配置）：
含精密注射泵/蠕动泵（控制滴胶速度和体积，精度可达μL级）、“自动针头定位机构”（通过电机驱动针头移动，实现多位置滴胶，如针对大尺寸基底的“多点滴胶”），以及“溶剂清洗单元”（滴胶后自动清洗针头，防止不同材料交叉污染）。
3、防护与腔体结构（Chamber&Shield）
用于收集匀胶过程中甩出的多余液体（避免污染设备和实验室）、控制挥发溶剂，并保障操作安全，主要包括：
防溅罩（Splash Shield）：
环绕旋转工作台的透明防护罩（材质多为亚克力或石英玻璃），可手动或自动升降（实验时闭合，防止液体飞溅；取放基底时打开），罩内壁通常设计为“倾斜导流结构”，使多余液体沿壁流下，汇入下方的“废液收集槽”。
废液收集与处理单元：
收集槽底部连接“废液管”，将多余液体（如光刻胶废液）导入专用废液桶；部分机型配备“溶剂回收装置”（如冷凝回收器），可回收挥发的有机溶剂（如丙酮、异丙醇），减少污染并降低成本。
通风接口（可选）：
腔体侧面预留“通风管道接口”，可连接实验室排风系统，及时排出匀胶过程中挥发的有害溶剂（如光刻胶中的有机溶剂），保障实验人员安全。
更新时间：2025-09-25
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